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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请公开了一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备，进气管作为等离子体发生腔，并用于向工艺腔室通入等离子体以对晶圆进行工艺，清洗方法包括：在每完成预设数量的晶圆的工艺后，向进气管通入第一清洗气体，并加载射频功率以激发第一清洗气体；控制进气管内的气压在第一预设压力维持第一预设时间，以及在第二预设压力维持第二预设时间，第一预设压力与第二预设压力的比值大于等于6且小于等于14，第一预设时间与第二预设时间的比值大于等于0.5且小于等于2。本申请通过对进气管进行批次间清洗，可以对杂质颗粒进行清洗，避免产生花状缺陷，由于析晶得到及时清洗，不需要经常停机更换进气管，延长了进气管的寿命，成本降低，提高了生产率。
主权项：1.一种进气管的清洗方法，其特征在于，所述进气管作为等离子体发生腔，并用于向工艺腔室通入等离子体以对晶圆进行工艺，所述清洗方法包括批次间清洗步骤，所述批次间清洗步骤包括：在每完成预设数量的晶圆的工艺后，向所述进气管通入第一清洗气体，并加载射频功率以激发所述第一清洗气体；控制所述进气管内的气压在第一预设压力维持第一预设时间，以及在第二预设压力维持第二预设时间，所述第一预设压力与所述第二预设压力的比值大于等于6且小于等于14，所述第一预设时间与所述第二预设时间的比值大于等于0.5且小于等于2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备
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