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硒化锌基膜系及其制备方法 

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申请/专利权人:安徽光智科技有限公司

摘要:本发明公开了一种硒化锌基膜系,包括硒化锌基底,在硒化锌基底的第一面上依次设置的第一YbF3膜、第一ZnSe膜、第二YbF3膜、第二ZnSe膜、第三YbF3膜和第三ZnSe膜,在硒化锌基底第二面上依次设置的第四YbF3膜和第四ZnSe膜,并设置各膜层厚度,提供的硒化锌基膜系对650nm波长的光的反射率高达96.5%以上,红外波长10.6μm的光的透过率高达99%以上,且膜层厚度薄,膜层之间的结合力较好。还公开了上述硒化锌基膜系的制备方法,通过调整制备工艺和各个工艺参数,提高各膜层之间的结合力,提高膜系结构的耐久性。

主权项:1.硒化锌基膜系,其特征在于,包括硒化锌基底,基底第一面上依次设置的第一YbF3膜、第一ZnSe膜、第二YbF3膜、第二ZnSe膜、第三YbF3膜和第三ZnSe膜,以及基底第二面上依次设置的第四YbF3膜和第四ZnSe膜;所述第一YbF3膜的厚度为783nm,所述第一ZnSe膜的厚度为209nm,所述第二YbF3膜的厚度为136nm,所述第二ZnSe膜的厚度为50nm,所述第三YbF3膜的厚度为128.6nm,所述第三ZnSe膜的厚度为50nm,所述第四YbF3膜的厚度为1023nm,所述第四ZnSe膜的厚度为232nm。

全文数据:

权利要求:

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