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基于掺杂氮化铝薄膜的顶栅MFS型堆叠FeFET器件及其制备方法 

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申请/专利权人:上海大学

摘要:本发明公开了一种基于掺杂氮化铝薄膜的顶栅MFS型堆叠FeFET器件及其制备方法,涉及半导体技术领域。源极区和漏极区嵌在衬底中,两者之间设有隔离区;源极电极设置在源极区的上表面;漏极电极设置在漏极区的上表面;隔离区上设有铁电层、栅极电极,衬底上方生长有钝化保护层,源极电极、铁电层、栅极电极、漏极电极均在钝化保护层内部;钝化保护层内还在三个电极对应的位置分别开设有三个通孔,三个通孔内均填充导电材料,使得三个电极分别与钝化保护层外部表面上的三个接触点连通。本发明增大顶栅MFS型堆叠FeFET器件的存储窗口,提高顶栅MFS型堆叠FeFET器件的读取裕度,有效防止顶栅MFS型堆叠FeFET器件中的随机位翻转以及由噪声和干扰引起的读取错误。

主权项:1.基于掺杂氮化铝薄膜的顶栅MFS型堆叠FeFET器件,其特征在于,包括:衬底101,所述衬底101的材料为硅;源极区104和漏极区105嵌在衬底101中,并且两者之间设有隔离区;源极电极106设置在源极区104的上表面;漏极电极107设置在漏极区105的上表面;所述隔离区上设有铁电层102,铁电层102上设有栅极电极103;所述衬底101上方生长有钝化保护层108,所述的源极电极106、铁电层102、栅极电极103、漏极电极107均在钝化保护层108内部;钝化保护层108内还在源极电极106、栅极电极103、漏极电极107三个电极对应的位置分别开设有三个通孔,分别为第一通孔1081、第二通孔1082、第三通孔1083,三个通孔内均填充导电材料,使得源极电极106、栅极电极103、漏极电极107分别与钝化保护层108外部表面上的源极接触点201、栅极接触点202和漏极接触点203连通。

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权利要求:

百度查询: 上海大学 基于掺杂氮化铝薄膜的顶栅MFS型堆叠FeFET器件及其制备方法

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