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申请/专利权人：东曹株式会社
摘要：本发明提供一种能够高度地抑制在膜表面形成金属薄膜的金属图案化用材料、杂环化合物、使用了它们的金属图案化用薄膜、有机电致发光元件、金属图案的形成方法及电子设备。一种金属图案化用材料，其由式A1或B1表示，式中，A各自独立地表示N或CR，至少一个为N，至少一个为CR；B表示N、NR、S、O或CR，至少一个为N、S或O，至少一个为CR。
主权项：1.一种金属图案化用材料，其由式A1或B1表示，[化学式1] 式中，A各自独立地表示N或CR，至少一个为N，至少一个为CR；B各自独立地表示N、S、O或CR，至少一个为N、S或O，至少一个为CR；R各自独立地表示式A01或式A02，至少一个为式A01；[化学式2] L1、L2各自独立地表示可以被取代的碳原子数6～26的单环、连接或稠环的二价至四价芳香族烃基、可以被取代的碳原子数3～26的单环、连接或稠环的二价至四价杂芳香族基团、可以被取代的碳原子数1～18的直链、支链或环状的二价至四价脂肪族烃基、可以被取代的碳原子数3～18的环状的二价至四价杂脂肪族烃基、O、S、Si或NR2；Rf各自独立地表示包含三个以上氟原子的碳原子数1以上的一价至二价的取代基；R1、R2各自独立地表示可以被取代的碳原子数6～26的单环、连接或稠环的一价芳香族烃基、可以被取代的碳原子数3～26的单环、连接或稠环的一价杂芳香族基团、可以被取代的碳原子数1～18的直链、支链或环状的一价脂肪族烃基、可以被取代的碳原子数3～18的环状的一价至二价杂脂肪族烃基、H、D氘原子或F氟原子；p各自独立地表示0至12的整数，q各自独立地表示1至6的整数，u各自独立地表示0至12的整数，v各自独立地表示1至6的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东曹株式会社 金属图案化用材料、杂环化合物、金属图案化用薄膜、有机电致发光元件、电子设备、及金属图案的形成方法
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