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申请/专利权人:爱思开海力士有限公司
摘要:公开了一种制造包括分离图案的半导体器件的方法。在半导体衬底之上形成包括第一导电柱和第二导电柱的中间结构层。形成分离层。选择性地去除分离层的一些部分以形成分离图案,并且形成第三导电图案和第四导电图案,第三导电图案填充分离图案的孔,第四导电图案填充分离图案的沟槽。
主权项:1.一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:在半导体衬底之上形成包括第一导电柱和第二导电柱的中间结构层;形成覆盖所述中间结构层的分离层;通过选择性地去除所述分离层的部分而形成分离图案,所述分离图案形成为提供孔和沟槽,所述孔暴露所述第一导电柱的部分,所述沟槽暴露所述第二导电柱的部分;以及形成第三导电图案和第四导电图案,所述第三导电图案填充所述分离图案的所述孔,所述第四导电图案填充所述分离图案的所述沟槽。
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权利要求:
百度查询: 爱思开海力士有限公司 制造包括分离图案的半导体器件的方法
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