首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

用于制造衬底的方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:英飞凌科技股份有限公司

摘要:一种方法,其包括:在介电绝缘层的第一侧上形成第一导电层,在第一导电层的背向介电绝缘层的一侧上形成结构化的掩模层,在第一导电层中形成至少一个沟槽,其中,所述至少一个沟槽延伸穿过整个第一导电层直至介电绝缘层,形成至少覆盖至少一个沟槽的底部和侧壁的涂层,在形成该涂层之后去除掩膜层。

主权项:1.一种用于制造衬底的方法,其包括:在介电绝缘层11的第一侧上形成第一导电层111;在所述第一导电层111的背向所述介电绝缘层11的一侧上形成结构化的掩膜层121;在所述第一导电层111中形成至少一个沟槽124,其中,所述至少一个沟槽124延伸穿过整个第一导电层直至所述介电绝缘层11;形成涂层31,所述涂层至少覆盖所述至少一个沟槽124的底部和侧壁;在形成所述涂层31之后去除所述掩膜层121,其中,如此形成所述第一导电层111,使得所述第一导电层不覆盖所述介电绝缘层11的边缘区域,其中,所述方法还包括:在所述介电绝缘层11的边缘区域上形成所述涂层31,所述边缘区域未被所述第一导电层111覆盖。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 英飞凌科技股份有限公司 用于制造衬底的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术
相关技术