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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且改善LER及CDU的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：A硫烷sulfurane或硒烷selenurane化合物，以下式A1表示，及B基础聚合物，包含含有下式B1表示的重复单元且因酸的作用而分解并使于碱显影液中的溶解度增大的聚合物。式中，M为硫原子或硒原子。
主权项：1.一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：A硫烷sulfurane或硒烷selenurane化合物，以下式A1表示，及B基础聚合物，包含含有下式B1表示的重复单元且因酸的作用而分解并使于碱显影液中的溶解度增大的聚合物； 式中，R1～R4分别独立地为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基，并且R1与R2、及R3与R4分别互相键结并形成以M作为螺原子的螺环；L1及L2分别独立地为-O-或-NR-；R为氢原子或也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；M为硫原子或硒原子； 式中，RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，R11为卤素原子、也可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃基羰基氧基、也可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、或也可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基氧基；A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，且构成该饱和亚烃基的-CH2-也可被-O-取代；v为0或1；w为0～2的整数；a为符合0≤a≤5+2w-b的整数；b为1～3的整数；所述化学增幅正型抗蚀剂组成物更含有C光酸产生剂。
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百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
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