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申请/专利权人：长沙韶光芯材科技有限公司
摘要：本发明涉及工件表面流体涂布技术领域，具体涉及一种半导体基底的玻璃基板旋转涂胶方法，通过获取每种转速下的涂胶对照样本集；对每种转速下涂胶对照样本的局部像素分布差异，确定每个涂胶对照样本的有效对比特征系数；同时将每个涂胶对照样本划分为同心的各个特征圆环区域，根据各个特征圆环区域之间的像素分布差异，确定每个涂胶对照样本的离心影响特征系数；根据有效对比特征系数和离心影响特征系数，确定均匀度与转速之间的变化曲线，进而结合厚度与转速之间的变化曲线，确定最佳转速，并根据最佳转速进行旋转涂胶。本发明通过有效提高涂胶均匀性，保证了涂胶质量。
主权项：1.一种半导体基底的玻璃基板旋转涂胶方法，其特征在于，包括以下步骤：获取每种转速下的涂胶对照样本集，所述涂胶对照样本集中每个涂胶对照样本对应一个待涂胶样本在对应转速下涂胶后的表面图像；对每个所述涂胶对照样本进行局部分割，得到各个局部区域，并根据每种转速下每个所述涂胶对照样本的各个局部区域之间的像素分布差异，以及各个局部区域在其他每个所述涂胶对照样本中相同位置的各个对照局部区域之间的像素分布差异，确定每个所述涂胶对照样本的有效对比特征系数；将每个所述涂胶对照样本划分为同心的各个特征圆环区域，根据不同所述特征圆环区域之间的像素分布差异，确定每个所述涂胶对照样本的离心影响特征系数；根据每种转速下的涂胶对照样本集中所有所述涂胶对照样本的所述有效对比特征系数和离心影响特征系数，确定每种转速下的涂胶均匀度，根据不同转速下的涂胶均匀度，确定均匀度与转速之间的变化曲线；获取每种转速下的涂胶对照样本集中所有所述涂胶对照样本的涂胶厚度，根据不同转速下的涂胶厚度，确定厚度与转速之间的变化曲线，根据所述均匀度与转速之间的变化曲线以及所述厚度与转速之间的变化曲线，确定最佳转速，并根据所述最佳转速进行旋转涂胶。
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权利要求：
百度查询： 长沙韶光芯材科技有限公司 一种半导体基底的玻璃基板旋转涂胶方法
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