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一种晶圆匀胶设备 

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申请/专利权人:浙江光特科技有限公司

摘要:本发明公开了一种晶圆匀胶设备,包括:一支撑件,其上设有3个定位组,3个所述定位组沿第一圆周的周向均匀间隔布置,所述定位组包括多个沿所述第一圆周的径向布置的定位孔;3个定位件,与3个所述定位组一一对应,所述定位件与所述定位孔可拆卸连接;一吸盘,设置于所述支撑件上,且位于3个所述定位件之间;一旋转机构,用于带动所述支撑件沿所述第一圆周的周向转动;一供胶机构;一滴胶管,与所述供胶机构连接,布置于所述吸盘的上方。将晶圆放置在吸盘上,并置于3个定位件之间,利用吸盘吸附晶圆。通过设置3个定位件,保证每次放置晶圆时,晶圆的中心固定,保证后续匀胶均匀性。

主权项:1.一种晶圆匀胶设备,其特征在于,包括:一支撑件,其上设有3个定位组,3个所述定位组沿第一圆周的周向均匀间隔布置,所述定位组包括多个沿所述第一圆周的径向布置的定位孔;3个定位件,与3个所述定位组一一对应,所述定位件与所述定位孔可拆卸连接;一吸盘,设置于所述支撑件上,且位于3个所述定位件之间;一旋转机构,用于带动所述支撑件沿所述第一圆周的周向转动;一供胶机构;一滴胶管,与所述供胶机构连接,布置于所述吸盘的上方;一底座;一呈环状布置的遮挡件,设置于所述底座上,所述遮挡件位于所述吸盘的外侧;所述遮挡件的底部向所述吸盘的方向折弯延伸而后向上延伸形成折弯部,所述折弯部位于所述支撑件的上方,并位于所述吸盘的上表面的下方;一清理件,该清理件用于与晶圆的周向侧壁贴合,该清理件位于所述折弯部的上方;沿所述吸盘的转动方向,所述清理件沿晶圆的径向的宽度逐渐增大;晶圆顺时针转动,清理件自下往上逐渐增大,在清理光刻胶时,光刻胶会滞留在清理件的斜面上,最终掉落在折弯部内;一调节机构,该调节机构用于沿水平方向调节所述清理件的位置;所述调节机构包括:一螺杆,水平布置,与所述遮挡件连接;一安装套,与所述螺杆螺纹连接,并与所述清理件连接;通过转动安装套带动清理件移动,调整清理件的位置,适应不同尺寸的晶圆。

全文数据:

权利要求:

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