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申请/专利权人：华中科技大学
摘要：本发明属于二维综合孔径辐射计成像技术领域，公开了一种基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法及系统，利用辐射信号不相关的特点，将各个天线接收的模拟信号延时、相加后输入一个通道，经AD采样、自相关、傅里叶反演处理最终获得亮温图像。本发明将延时相关的思想与传统综合孔径微波辐射计相结合，在算法层面降低了互相关矩阵R和可见度函数V的计算复杂度。传统二维综合孔径成像算法是获得天线的互相关函数值，再将函数值依据基线差分类相加；但是本发明在基于延时相关的二维综合孔径成像算法中仅将延时相加数据的自相关函数与基线差一一对应即可，提升了信号处理效率，以较小的代价解决了传统综合孔径信号处理繁琐的问题。
主权项：1.一种基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法，其特征在于，所述基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法包括以下步骤：步骤一，确定使用的天线阵列，并对两点点源、背景辐射以及校正源进行数据采集；步骤二，根据天线阵列的排布按编号设置天线阵各天线的位置，并求出相应的基线差；步骤三，根据天线位置和基础延时时间对所采集的数据进行延时相加处理；步骤四，根据基线差对延时相加后的数据进行自相关处理再求可见度；步骤五，对可见度进行反演得到亮温然后成像，最终得到点源的亮温图像；步骤四进一步包括：1分别将校正过的点源和背景辐射的延时相加数据进行自相关处理，对于一半的基线差，对应求出不同延时时间τ，再对延时相加的数据做循环位移，位移的量为相对应的延时时间τ，得到yΣn-τ；2把yΣn和yΣn-τ按着一半的基线差对应做自相关运算，找出相应基线差的个数，将求得的与基线差对应的自相关结果分别除以对应基线差的个数就能求得对应的可见度的值；3再对可见度的值求共轭复数，扩展至完整的基线差，得到完整的基线差对应的可见度，根据二维综合孔径辐射计的UV平面，将得到的可见度的值赋值给相应的采样点，得到最终的天线阵列的整个UV平面的可见度，得到校正过后的点源以及背景辐射的可见度的值。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华中科技大学 一种基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法及系统
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