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申请/专利权人：分子装置(奥地利)有限公司
摘要：校准光场成像系统的方法、执行校准方法的光场成像系统、用于校准方法的校准对象、以及利用经校准的光场成像系统将光场图像投影到物体空间中的方法。示例性校准方法利用包括微透镜阵列和图像传感器的光场成像系统来执行。当校准对象在载台上并且位于多个不同的z位置处时，可以使用图像传感器捕获校准对象的光场图像的z堆叠。可以根据z堆叠的每个光场图像确定成像系统的总放大率和微透镜阵列的微透镜放大率。
主权项：1.一种校准具有微透镜阵列和图像传感器的光场成像系统的方法，所述方法包括：在校准对象位于多个不同的z位置处时，使用所述图像传感器捕获所述校准对象的光场图像的z堆叠；以及根据所述z堆叠的每个光场图像确定所述光场成像系统的总放大率和所述微透镜阵列的微透镜放大率，其中，所述校准对象具有至少一种类型的被布置成形成第一周期性重复部和第二周期性重复部的标记，其中，所述第一周期性重复部用于确定在所述z位置中的每一个处的所述总放大率，并且其中，所述第二周期性重复部用于确定在所述z位置中的每一个处的至少一个微透镜放大率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 分子装置(奥地利)有限公司 光场成像系统的校准
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