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申请/专利权人：安徽安航智造科技有限公司

摘要：本发明公开了一种游离二氧化硅检测前处理装置及方法，其中所述游离二氧化硅检测前处理装置包括：至少一个反应容器、第一输送机构、加热机构、离心机构、抓取机构以及负压机构。所述反应容器内设置有样本；所述第一输送机构用于向所述反应容器内加入反应试剂；所述反应容器设置于所述加热机构内，且所述加热机构用于对所述反应容器进行加热；所述离心机构设置于所述加热机构外侧；所述抓取机构用于将所述反应容器抓取至所述离心机构内；所述负压机构用于对所述离心机构内的所述反应容器进行抽吸。借此，本发明的游离二氧化硅检测前处理装置，避免了游离二氧化硅残渣的损失，提高了检测的稳定性，检测过程简单，检测效率高，且检测结果稳定。

主权项：1.一种游离二氧化硅检测前处理装置，其特征在于，包括：至少一个反应容器，所述反应容器内设置有样本；第一输送机构，用于向所述反应容器内加入反应试剂；加热机构，所述反应容器设置于所述加热机构内，且所述加热机构用于对所述反应容器进行加热；离心机构，设置于所述加热机构外侧；抓取机构，用于将所述反应容器抓取至所述离心机构内；以及负压机构，用于对所述离心机构内的所述反应容器进行抽吸；其中，所述游离二氧化硅检测前处理装置还包括滤芯，设置于所述负压机构的抽吸口处；其中，所述游离二氧化硅检测前处理装置还包括搅拌冲洗机构，能够纵向移动地设置于所述离心机构的上方，且所述搅拌冲洗机构用于伸入所述离心机构内的所述反应容器中进行搅拌及冲洗；其中，所述抓取机构包括：工作台，所述加热机构和所述离心机构均设置于所述工作台外；固定支架，固定于所述工作台外，其中，所述固定支架的顶部位于所述加热机构和所述离心机构的上方；滑轨，设置于所述固定支架的顶部上，且所述第一输送机构能够移动地设置于所述滑轨上；以及抓取单元，能够横移动地设置于所述滑轨内，且所述抓取单元还用于将所述反应容器抓取至所述离心机构内；其中，所述负压机构包括：负压单元；以及负压管路，所述负压管路的一端与所述负压单元相连接，且所述负压管路的另一端朝向所述离心机构；其中，所述负压单元通过所述负压管路能够对所述离心机构内的所述反应容器进行抽吸；其中，所述滤芯能够拆卸地设置于所述负压管路的所述另一端内；其中，所述游离二氧化硅检测前处理装置还包括：烘烤机构，设置于所述工作台外，且所述烘烤机构用于烘烤所述反应容器；干燥机构，设置于所述工作台外，且所述干燥机构用于冷却所述反应容器；以及称重机构，设置于所述工作台外，且所述称重机构用于对所述反应容器进行称重；第二输送机构，能够纵向移动地设置于所述离心机构的上方，且所述第二输送机构用于向所述离心机构内的所述反应容器加入冲洗剂；其中，所述第二输送机构包括第三伸缩支架、第二输送管路和供液单元，所述第二输送管路的进液口与所述供液单元相连接，所述供液单元用于提供盐酸，且所述第二输送管路上设有电磁阀，所述电磁阀与控制器电性连接；所述第三伸缩支架能够纵向移动地固定于所述抓取机构的所述固定支架上，并位于所述离心机构的上方，朝向所述离心机构内的一个容纳槽，所述第三伸缩支架能够在所述固定支架上纵向移动。

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