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申请/专利权人：苏州辰华半导体技术有限公司
摘要：本实用新型提供一种物理气相沉积设备，所述物理气相沉积设备包括：真空腔室；支撑柱，设置在所述真空腔室中，多个衬底固定设置在所述支撑柱的侧面，且所述支撑柱的转动可带动多个所述衬底转动；多个靶材，设置在所述真空腔室中，且多个所述靶材设置在所述支撑柱的两侧；过滤结构，设置在所述支撑柱和所述靶材之间；以及多个电弧电源，每个所述电弧电源的阳极输出端和阴极输出端电性连接于一个所述靶材。本实用新型提供的一种物理气相沉积设备，减少了薄膜中的大颗粒物质和提高了镀膜的质量。
主权项：1.一种物理气相沉积设备，其特征在于，包括：真空腔室；支撑柱，设置在所述真空腔室中，多个衬底固定设置在所述支撑柱的侧面，且所述支撑柱的转动可带动多个所述衬底转动；多个靶材，设置在所述真空腔室中，且多个所述靶材设置在所述支撑柱的两侧；过滤结构，设置在所述支撑柱和所述靶材之间；以及多个电弧电源，每个所述电弧电源的阳极输出端和阴极输出端电性连接于一个所述靶材。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州辰华半导体技术有限公司 一种物理气相沉积设备
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