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申请/专利权人：杭州帕兹电子有限公司
摘要：本实用新型涉及半导体湿法刻蚀设备技术领域，公开了一种设有刻蚀槽装置的湿法刻蚀设备。本实用新型包括：刻蚀机本体，所述刻蚀机本体上设有槽体，所述槽体的一侧固定安装有风机和分叉管，所述风机的进风口与分叉管的主管固定连接，所述分叉管的两个支管均与槽体相连接，所述槽体的一侧固定安装有滤箱，所述滤箱的底部设有清灰机构。本实用新型使得晶圆在刻蚀槽中被取出后可以加速表面刻蚀液的掉落，避免刻蚀液随着晶圆的转移而滴落到刻蚀槽外。
主权项：1.一种设有刻蚀槽装置的湿法刻蚀设备，包括：刻蚀机本体，所述刻蚀机本体上设有槽体，其特征在于，所述槽体的一侧固定安装有风机和分叉管，所述风机的进风口与分叉管的主管固定连接，所述分叉管的两个支管均与槽体相连接，所述槽体的一侧固定安装有滤箱，所述滤箱的底部设有清灰机构。
全文数据：
权利要求：
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