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申请/专利权人：武汉百臻半导体科技有限公司
摘要：本发明公开了一种QDR清洗设备用防堵型废水排出结构及方法，属于QDR清洗设备技术领域，通过曲轴旋转使两个滑套带动支撑杆发生偏转，两个支撑杆通过销轴拉动连接板和滤板向上移动，此时滤板上的排出孔一与清洗槽上的排出孔二连通，使部分杂质能够顺着水流穿过排出孔二，并且通过滤渣组件进行过滤，随着曲轴继续转动，滤板向下移动，此时排出孔一和排出孔二则会错开，滤板的两侧能够封堵两个排出孔二，防止清洗槽内水持续排出，随着曲轴持续旋转，滤板能够往复运动并且进行排渣，无需停机进行清堵操作，实现在进行清堵作业的同时不影响QDR清洗机正常工作的目的，有利于QDR清洗机的高效稳定作业。
主权项：1.一种QDR清洗设备用防堵型废水排出结构，包括清洗槽1，其特征在于：所述清洗槽1内设有滤板2，所述滤板2上开设有滤孔3，所述滤板2的两侧分别开设有排出孔一4，所述滤板2的下方设有驱动组件5，所述驱动组件5贯穿清洗槽1并且安装在清洗槽1的背面；所述驱动组件5外设有往复组件6，所述往复组件6的顶部与滤板2的底部相固定，所述清洗槽1的两侧分别安装有滤渣组件8，所述滤渣组件8的顶部贯穿设置在清洗槽1上，所述清洗槽1的底部设有三个排放阀9，所述滤渣组件8的底部连接在其中一个排放阀9上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉百臻半导体科技有限公司 一种QDR清洗设备用防堵型废水排出结构及方法
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