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申请/专利权人：上海艾深斯科技有限公司
摘要：本发明涉及一种光刻胶组合物，包括如下组分:1）含有MOFs纳米颗粒和光敏材料的分散体系；以及2）含有结构式I化合物的溶剂；该组合物适合于EUV光刻，具有稳定，高分辨率和自修复特性。
主权项：1.一种用于EUV光刻的光刻胶组合物，其特征在于，包括如下组分:1）MOFs纳米颗粒2-3份，纳米硫化锌和或纳米二氟化银1-1.5份，光敏材料1-1.5份，双吗啉基二乙基醚2-4份，以及2）含有如下结构式I化合物的溶剂6-20份； （I），其中X1选自H或甲基；其中，光敏材料为聚氨酯丙烯酸酯和或环氧丙烯酸酯，并且组分1）为纳米分散体系。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海艾深斯科技有限公司 一种MOFs光刻胶产品及其制备方法
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