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申请/专利权人：深圳市汇芯通信技术有限公司
摘要：本申请公开了一种PECVD薄膜沉积装置和PECVD薄膜沉积方法，PECVD薄膜沉积装置包括处理腔室、气体供应组件、加热托盘、升降机构和旋转机构，所述处理腔室用于进行薄膜沉积；所述气体供应组件设置在所述处理腔室的上部，用于向所述处理腔室内提供工艺气体；所述加热托盘设置在所述处理腔室的下部，用于承载并加热基板；其中，所述加热托盘包括多级加热部，在圆心为起点到圆周的半径方向上，多级所述加热部与所述基板的之间的距离逐渐缩小。本申请通过设置多级加热部，使得基板的四周与中心区域距离加热托盘不同，从而使得基板的四周与中心区域的加热温度更为接近，使得薄膜沉积的过程中薄膜厚度的更为均匀。
主权项：1.一种PECVD薄膜沉积装置，其特征在于，包括：处理腔室，用于进行薄膜沉积；气体供应组件，设置在所述处理腔室的上部，用于向所述处理腔室内提供工艺气体；加热托盘，设置在所述处理腔室的下部，用于承载并加热基板；升降机构，设置在所述加热托盘的下方，用于驱动所述加热托盘升降；以及旋转机构，用于控制所述加热托盘旋转或所述加热托盘与所述基板同步旋转；其中，所述加热托盘包括多级加热部，在圆心为起点到圆周的半径方向上，多级所述加热部与所述基板的之间的距离逐渐缩小。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市汇芯通信技术有限公司 PECVD薄膜沉积装置和PECVD薄膜沉积方法
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