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申请/专利权人:北京超弦存储器研究院
摘要:本申请涉及一种半导体结构、存储器、电子设备、存储电路及读写方法,半导体结构包括沿第一方向依次叠置的第一有源柱和第二有源柱,以及沿第一方向依次叠置的第一栅导电层和第二栅导电层;第一有源柱和第二有源柱均沿第二方向延伸;第一栅导电层周向环绕第一有源柱的部分侧壁;第二栅导电层周向环绕第二有源柱的部分侧壁;其中,第一有源柱和第一栅导电层用于构成第一晶体管,第二有源柱和第二栅导电层用于构成第二晶体管;第一方向与第二方向相交。上述半导体结构在提高器件集成度的同时,还能减小漏电流、提升写入速度,并且降低存储器的控制技术复杂度、提高效率、减少刷新时间,进而提高器件的整体性能。
主权项:1.一种半导体结构,其特征在于,包括沿第一方向依次叠置的第一有源柱和第二有源柱,以及沿所述第一方向依次叠置的第一栅导电层和第二栅导电层;所述第一有源柱和所述第二有源柱均沿第二方向延伸;所述第一栅导电层周向环绕所述第一有源柱的部分侧壁;所述第二栅导电层周向环绕所述第二有源柱的部分侧壁;其中,所述第一有源柱和所述第一栅导电层用于构成第一晶体管,所述第二有源柱和所述第二栅导电层用于构成第二晶体管;所述第一方向与所述第二方向相交。
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百度查询: 北京超弦存储器研究院 半导体结构、存储器、电子设备、存储电路及读写方法
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