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申请/专利权人:东京应化工业株式会社
摘要:本发明提供一种镀覆造形物的制造方法,能够抑制使用感光性组合物形成作为镀覆造形物形成用的铸模使用的图案时的该图案中的底脚,并且能够使用上述铸模形成对基板表面的金属层的密合性良好的镀覆造形物,且能够抑制镀覆造形物形成后对在其上未形成有镀覆造形物的基板表面的金属层进行蚀刻时的蚀刻残渣。使用包含规定结构的含硫化合物及或含氮化合物的感光性组合物形成作为镀覆造形物形成用的铸模使用的抗蚀剂图案,在形成镀覆造形物之前,对从抗蚀剂图案的非抗蚀剂部露出的由金属构成的表面实施灰化,并且在镀覆造形物形成后利用包含碱性化合物的剥离液剥离抗蚀剂图案,之后对在其上未形成有镀覆造形物的基板表面的金属层进行蚀刻。
主权项:1.一种镀覆造形物的制造方法,在表面具备金属层的基板的所述金属层上形成镀覆造形物,其特征在于,包括:准备在表面具备所述金属层的所述基板与感光性组合物的工序;在所述基板的所述金属层上涂布所述感光性组合物,形成感光性组合物膜的工序;对所述感光性组合物膜进行曝光,以通过对曝光后的所述感光性组合物膜进行显影而形成具有与所述镀覆造形物的位置及形状相应的图案形状的铸模的工序;对曝光后的所述感光性组合物膜进行显影,使所述基板中的所述金属层的至少一部分露出,制作用于形成镀覆造形物的铸模的工序;在制作所述铸模后,对所述露出的所述金属层的表面进行灰化处理的工序;在进行所述灰化处理后,在所述铸模内形成镀覆造形物的工序;在形成所述镀覆造形物后,利用剥离液去除所述铸模的工序;在利用剥离液去除所述铸模之后,为了去除所述金属层中的不与所述镀覆造形物接触的部分,对具备所述镀覆造形物的所述基板进行蚀刻的工序,所述感光性组合物包含含硫化合物及或含氮化合物,所述含硫化合物包含与构成所述金属层的金属配位的硫原子,所述含氮化合物包含构成含氮芳香族杂环的氮原子,所述含氮芳香族杂环与构成所述金属层的金属配位,所述剥离液包含碱性化合物。
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权利要求:
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