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申请/专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司

摘要：本发明公开了一种等离子体刻蚀设备及陶瓷窗口的温控方法，属于半导体制造技术领域，解决了陶瓷窗口温度会随着工艺前后而变化，会产生工艺的再现性与重复性不良的问题。本发明等离子体刻蚀设备包括陶瓷窗口及用于维持陶瓷窗口温度稳定的加热装置和冷却装置；加热装置包括灯座和紫外线灯，紫外线灯设置有1个以上，且均匀设置在灯座上，灯座设置在陶瓷窗口上方；冷却装置包括多个冷却喷嘴，冷却喷嘴用于喷射冷却气体，多个冷却喷嘴均匀设置在陶瓷窗口的外围。

主权项：1.一种等离子体刻蚀设备，其特征在于，包括陶瓷窗口及用于维持陶瓷窗口温度稳定的加热装置和冷却装置；所述加热装置包括灯座和紫外线灯，所述紫外线灯设置有1个以上，且均匀设置在灯座上，所述灯座设置在陶瓷窗口上方；所述加热装置用于在对晶圆进行等离子体刻蚀工艺前对陶瓷窗口进行加热将陶瓷窗口维持在稳定温度，并在进行等离子体刻蚀工艺期间，将紫外线灯的输出功率降低，抵消因等离子体造成的陶瓷窗口温度的上升；所述冷却装置包括多个冷却喷嘴，所述冷却喷嘴用于喷洒冷却气体，所述多个冷却喷嘴均匀设置在陶瓷窗口的外围；所述冷却装置还包括供气管路、气体分配板或气体分离器，以及质量流量控制器或质量流量单元；所述气体分配板或气体分离器沿陶瓷窗口外围设置，所述冷却喷嘴均匀设置在气体分配板或气体分离器上；所述供气管路一端与气体分配板或气体分离器连接，另一端用于通入冷却气体；所述质量流量控制器或质量流量单元设置在供气管路上，用于控制冷却气体的供应量；陶瓷窗口上设置有温度传感器，用于实时监控陶瓷窗口的温度；温度传感器与外部控制系统相连接，将监测到的温度信号传输至外部控制系统，外部控制系统根据温度信号调节紫外线灯的开关数量，和或，调节所述质量流量控制器或质量流量单元进而控制电流与冷却气体的流量，将陶瓷窗口温度维持在同一水平下；所述加热装置和冷却装置的整体控制是以前馈控制的方式来作动，提前设置温度，外部控制系统根据设置的温度来控制加热与冷却的水平。

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