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申请/专利权人：青海圣诺光电科技有限公司
摘要：本发明属于抛光液技术领域，尤其是一种用于碳化硅衬底材料的碱性粗抛液，包含如下质量百分比含量的组分：99.99％高纯α氧化铝粉体：2％‑8％，分散剂0.05％‑0.5％，氧化剂1％‑3％，缓冲剂0.1％‑1％，悬浮剂0.05％‑0.5％，pH调节剂调节pH在8‑11，余量为纯水。本发明提出的碱性粗抛液适用于利用无纺布抛光垫的各种抛光机进行碳化硅衬底的粗抛加工工序，粗抛液的体系较稳定，循环抛光过程不用补加pH调节剂和原液；调整99.99％高纯α氧化铝煅烧温度，控制粒径在150‑500nm大小的α相氧化铝粉体，经过本发明的配方配制，粗抛后硅面粗糙度都能达到Ra≤0.12nm，碳面粗糙度都能达到Ra≤0.2nm，可大大缩短后端的二氧化硅精抛时间，提高生产效率。
主权项：1.一种用于碳化硅衬底材料的碱性粗抛液，其特征在于，包含如下质量百分比含量的组分：99.99％高纯α氧化铝粉体：2％-8％，分散剂0.05％-0.5％，氧化剂1％-3％，缓冲剂0.1％-1％，悬浮剂0.05％-0.5％，pH调节剂调节pH在8-11，余量为纯水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 青海圣诺光电科技有限公司 一种用于碳化硅衬底材料的碱性粗抛液
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