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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：基板处理装置具备：处理容器，将基板收容于内部空间；基座，在所述内部空间中对所述基板进行载置；气体供给部，向所述内部空间供给处理气体；以及气体排出部，将包含所述处理气体的废气从所述内部空间排出。所述气体排出部具有：一个以上的排气口，与所述处理容器的所述内部空间连通并且沿着该处理容器的内周面的周向延伸，供所述废气流入；以及多个排气通路，与一个以上的所述排气口连通，并在所述处理容器的壁的内部延伸。
主权项：1.一种基板处理装置，其具备：处理容器，其将基板收容于内部空间；基座，其在所述内部空间中对所述基板进行载置；气体供给部，其向所述内部空间供给处理气体；以及气体排出部，其将包含所述处理气体的废气从所述内部空间排出，所述气体排出部具有：一个以上的排气口，与所述处理容器的所述内部空间连通并且沿着该处理容器的内周面的周向延伸，供所述废气流入；以及多个排气通路，与一个以上的所述排气口连通并在所述处理容器的壁的内部延伸。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
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