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申请/专利权人：合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
摘要：本公开涉及测试技术领域，公开了一种电容的测试方法及装置，该方法为：分别为检测基板上各个像素点中的各个独立电容建立目标测试点位，基于目标测试点位分别测量各个独立电容的第一电容值，并基于第一电容值确定各个像素点中的各个独立电容是否合格，基于检测合格的像素点和关联像素点，确定检测合格的像素点的第二电容值和综合电容值，其中，关联像素点为与检测合格的像素点在检测基板的布局上有位置关联关系的像素点，基于第二电容值和综合电容值确定各像素点的综合电容是否合格，从而能够精确模拟出耦合电容的大小，进而确定各像素点的独立电容和综合电容是否合格，从而使不同像素点的电容值更加均衡。
主权项：1.一种电容的测试方法，其特征在于，包括：分别为检测基板上各个像素点中的各个独立电容建立目标测试点位，其中，所述检测基板包括在衬底上层叠设置的公共电极层、栅线层、栅绝缘层、数据线层、钝化层和像素电极层，一个所述独立电容与两个所述目标测试点位相对应，各个所述像素点之间的距离大于第一预设距离，且各个所述像素点之间不存在关联像素点；基于所述目标测试点位分别测量各个独立电容的第一电容值，并基于所述第一电容值确定所述各个像素点中的各个所述独立电容是否合格；基于检测合格的像素点和关联像素点，确定检测合格的像素点的第二电容值和综合电容值，其中，所述关联像素点为与所述检测合格的像素点在所述检测基板的布局上有位置关联关系的像素点，所述检测合格的像素点和所述关联像素点之间的距离小于第一预设距离；基于所述第二电容值和所述综合电容值确定各像素点的综合电容是否合格。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥京东方显示技术有限公司 京东方科技集团股份有限公司 一种电容的测试方法及装置
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