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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：披露用于光刻设备中的第一和第二新颖隔膜。所述第一隔膜包括芯部基板和金属硅酸盐层。所述金属硅酸盐层是所述第一隔膜的最外层。所述第二隔膜包括芯部基板和硅酸钇层。所述硅酸钇层可以是所述隔膜的最外层，或替代地，所述硅酸钇层可以被设置在所述芯部基板与钇或氧化钇的层之间。所述第一隔膜和所述第二隔膜可以被设置在EUV光刻设备内。例如，所述隔膜可以形成表膜的一部分。所述表膜可以适于在EUV光刻设备内邻近于掩模版来使用。替代地，所述隔膜可以形成动态气锁的一部分。替代地，所述隔膜可以形成光谱滤波器的一部分。
主权项：1.一种用于光刻设备中的隔膜，所述隔膜包括：芯部基板；和金属硅酸盐层，其中，所述金属硅酸盐层是所述隔膜的最外层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于光刻设备中的表膜和隔膜
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