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申请/专利权人：重庆工商大学

摘要：本发明公开了一种特定MXene纳米片大小的锂离子共插层膜制备方法。该方法采用特定大小的MXene纳米片溶液为原料，氯化锂为插层剂，戊二酸为交联剂，尼龙膜（Nylon6）为基膜；先将一定体积和浓度的MXene纳米片溶液超声分散均匀，再将MXene纳米片溶液通过分步离心后得到特定大小的MXene纳米片并配成MXene纳米片溶液，接着将MXene纳米片溶液真空辅助抽滤到聚多巴胺（PDA）修饰的Nylon6基材（PDANylon6）上即得特定厚度的MXene膜，然后将MXene膜先在一定浓度的氯化锂溶液中完全浸泡一定时间，随后通过洗涤多次除去膜表面剩余的氯化锂溶液，再将MXene膜在浓度与氯化锂溶液一致的戊二酸溶液中完全浸泡相同时间，随后同样通过洗涤多次除去膜表面剩余的戊二酸溶液，最后将MXene膜在70℃~80℃真空干燥箱中干燥后降至室温，干燥过夜保存，即得特定MXene纳米片大小的锂离子共插层膜。本发明制备方法简单，所得的锂离子共插层膜层间距在4.8Å左右，具有扩大的纳米通道和抗溶胀的特点，具有较高的截留率和稳定性，可以用于海水淡化，染料废水处理以及卤水资源回收等领域，具有良好的应用潜力。

主权项：1.一种特定MXene纳米片大小的锂离子共插层膜制备方法，其特征在于，先将一定体积和浓度的MXene纳米片溶液超声分散均匀，再将MXene纳米片溶液分步离心制得大小为350nm×350nm~450nm×450nm的MXene纳米片；将此大小的MXene纳米片置于去离子水中，配成体积为50ml~100ml、浓度为0.01mgml~0.1mgml的MXene纳米片溶液，将MXene纳米片溶液真空辅助抽滤到PDANylon6基材上即得厚度为80nm~120nm的MXene膜；然后将MXene膜在浓度为10mgL~100mgL的氯化锂溶液中完全浸泡0.5h~1h，随后通过洗涤多次除去膜表面剩余的氯化锂溶液；再将MXene膜在浓度与氯化锂溶液一致的戊二酸溶液中完全浸泡0.5h~1h，随后同样通过洗涤多次除去膜表面剩余的戊二酸溶液；最后将MXene膜在70℃~80℃真空干燥箱中干燥1h~2h后，降至室温，干燥过夜保存，即得特定MXene纳米片大小的锂离子共插层膜。

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权利要求：

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