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申请/专利权人：中国振华(集团)新云电子元器件有限责任公司(国营第四三二六厂)
摘要：本发明公开了一种钽电容器的被膜制备方法及其应用、钽电容器，涉及电容器技术领域。包括采用浸渍分解法在钽基体的表面及内部空隙中形成第一被膜层，制得预制件，采用电解法在预制件的内部空隙中形成第二被膜层，第二被膜层覆盖和或填充第一被膜层的空隙，第一被膜层和第二被膜层均为二氧化锰层。通过采用浸渍分解法和电解法结合，浸渍分解法能够在钽基体的表面以及内部可进入的缝隙中反应生成二氧化锰，电解法的解作用，可以使得二氧化锰可以沿着电流均匀分布在第一被膜层的表面，或者覆盖于第一被膜层无法深入的空隙中，与第一被膜层连接，形成连续、均匀的二氧化锰层，从而提高电容器的容量引出效果。
主权项：1.一种钽电容器的被膜制备方法，其特征在于，包括采用浸渍分解法在钽基体的表面及内部空隙中形成第一被膜层，制得预制件，采用电解法在所述预制件的内部空隙中形成第二被膜层，所述第二被膜层覆盖和或填充所述第一被膜层的空隙，所述第一被膜层和第二被膜层均为二氧化锰层；所述钽基体包括纯钽以及在所述纯钽的一侧形成的Ta2O5电介质层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国振华(集团)新云电子元器件有限责任公司(国营第四三二六厂) 钽电容器的被膜制备方法及其应用、钽电容器
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