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申请/专利权人：纳狮新材料有限公司杭州分公司;纳狮新材料有限公司;东莞瀚晶纳米材料有限公司
摘要：本发明属于真空镀膜机设备技术领域，提供了一种PVD通用型平面靶座装置。一种PVD通用型平面靶座装置。采用工艺切换平台对永磁体进行移动，调整靶材表面的磁场强度，满足靶材表面磁场强度在磁控镀膜和电弧镀膜时的工艺要求；采用移动驱动组件对靶材和阴极载体组件进行移动，调整靶材和工件之间的距离，满足磁控镀膜和电弧镀膜时，靶材与被镀膜工件之间的距离要求。采用上述设置，避免采用磁控镀膜和电弧镀膜需要对靶座进行拆换，降低设备的运行成本；避免每次拆换后对真空室重新检漏，降低维护成本；避免由于真空破除，产品接触空气，造成打底涂层氧化变质，影响后续外层镀膜。
主权项：1.一种PVD通用型平面靶座装置，包括靶材（1）、阴极载体组件（5）和永磁体组（4），所述永磁体组（4）包括永磁体（11），其特征在于，所述永磁体组（4）底部设有工艺切换平台（12），所述永磁体（11）固定在所述工艺切换平台（12）上，所述工艺切换平台（12）底部设有旋转驱动组件（6），所述工艺切换平台（12）在所述旋转驱动组件（6）的作用下能够远离和靠近所述靶材（1）。
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