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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：披露了用于减少沉积在基板上的颗粒的物理气相沉积方法。可增加溅射期间的压力以引起在等离子体中形成的颗粒的团聚。在熄灭等离子体之前，可将团聚的颗粒移动到处理腔室的外部部分，使得团聚物无害地落在基板的直径的外侧。
主权项：1.一种物理气相沉积方法，包括以下步骤：通过处于沉积压力下的等离子体将膜沉积在磁控管物理气相沉积腔室中的基板表面上并在所述等离子体中产生多个颗粒，所述磁控管物理气相沉积腔室具有磁控管组件，所述磁控管组件包括可旋转驱动轴和多个磁体，所述可旋转驱动轴的位置与所述腔室的中心轴对准，所述可旋转驱动轴的所述位置相对于所述腔室的所述中心轴固定，所述多个磁体耦接至磁体支撑构件，所述磁体支撑构件连接至所述可旋转驱动轴以绕着所述中心轴旋转；将所述物理气相沉积腔室中的压力增加到大于或等于50毫托的颗粒净化压力，以移动所述颗粒的至少一些到所述物理气相沉积腔室的外部部分，其中在增加所述压力的同时使所述基板表面偏压以保持多个颗粒悬浮在所述等离子体中，其中移动所述颗粒的至少一些包括：增加施加至所述基板表面的所述偏压的频率以在所述颗粒的至少一些上产生电荷而形成带电颗粒，并且增加所述频率产生捕获力，所述捕获力减少所述带电颗粒放电的时间量；和熄灭所述等离子体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 在脉冲式PVD中通过等离子体改性从晶片移除颗粒的方法
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