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用于沉积有机层的方法和设备 

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申请/专利权人:艾克斯特朗欧洲公司

摘要:本发明涉及一种用于在基底16上沉积有机层的设备,该设备具有:气体混合装置1,该气体混合装置具有分别用于馈入由通过承载气体输送的先前蒸发的具有大于300gmol或400gmol的摩尔质量的有机分子构成的气流F1、F2的一个或多个输入端2、2’、通过多次偏转使有机分子在承载气体中均匀混合的气体偏转元件7和输出端8,从输出端逸出均匀的气体混合物,输送线路9,该输送线路连接至输出端8,和进气机构10,该进气机构具有气体分布体积11,输送线路9通入该气体分布体积中,并且气体分布体积具有带有出气开口12的出气表面13’,该出气表面与用于容纳基底16的基底支架15对置。本发明此外涉及一种用于在这种设备中、在基底上沉积层的方法。为了改进被沉积的层的横向的均匀性而建议,将输送线路9中的平均流动速度vm选择为,输送线路9具有这样设计的扩散影响装置25,或在输送线路9的面对进气机构10的端部上设置有压力壁垒20,使得在输送线路9中,有机分子的指向输送线路9的横截面中的、导致横向的不均匀的层生长的、偏析的扩散至少被抑制、优选被阻止。

主权项:1.一种用于在基底上沉积层的方法,其中,由通过承载气体输送的先前蒸发的具有大于300gmol的摩尔质量的有机分子构成的气流F1、F2分别馈入气体混合装置1的一个或多个输入端2、2’中,一个或多个气流F1、F2的分子通过借助气体偏转元件7的多次偏转均匀地在承载气体中混合,因此产生的混合物作为气流F3从气体混合装置1的输出端8引导至输送线路9中,通过所述输送线路9输送到进气机构10的气体分布体积11中,通过气体分布体积11的出气开口12朝承受器的方向逸出,并且所述分子作为有机层沉积在由基底支架15容纳的基底16上,其特征在于,输送线路9中的平均流动速度vm被这样选择,所述输送线路9具有这样设计的扩散影响装置25或者在输送线路9的面对进气机构10的端部上这样设置有压力壁垒20,使得在输送线路9中,有机分子的指向输送线路9的横截面中的、导致横向的不均匀的层生长的、偏析的扩散被阻止,其中,所述输送线路9中的总压力P3、通过输送线路9的混合物的质量流量和输送线路9的直径D被选择为,使得平均流动速度vm小于40ms,其中,所述气体分布体积11中的总压力P0小于0.9mbar。

全文数据:

权利要求:

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