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申请/专利权人:宜兴市中谷粮油有限责任公司
摘要:本发明公开了一种自适应土壤生态条件的水稻栽培调控装置及方法,涉及水稻栽培技术领域,解决了水稻进行施肥和灌溉的分量难以进行控制且容易造成浪费,影响水稻正常生长效果的问题。该自适应土壤生态条件的水稻栽培调控装置,包括基础底板、竖直柱体、自适应栽培机构、一体化施肥灌溉组件和栽培盆,基础底板设置有多组,且底部基础底板顶部的偏心处安装有多组竖直柱体,竖直柱体的内侧安装定位有基础底板,基础底板的顶部设置有自适应栽培机构。在本发明中,进行施肥、灌溉的肥料和水分可直接传输至栽培盆的内底部,并直接被栽培盆内部水稻种子和幼苗的根系吸收,有效减少肥料和水分的浪费,保证水稻施肥灌溉的分量满足水稻生长的要求。
主权项:1.一种自适应土壤生态条件的水稻栽培调控装置,包括基础底板(10)、竖直柱体(20)、自适应栽培机构(30)、一体化施肥灌溉组件(40)和栽培盆(50),其特征在于:所述基础底板(10)设置有多组,且底部所述基础底板(10)顶部的偏心处安装有多组竖直柱体(20),所述竖直柱体(20)的内侧安装定位有基础底板(10),所述基础底板(10)的顶部设置有自适应栽培机构(30),所述基础底板(10)的内部设置有延伸至外侧的一体化施肥灌溉组件(40),所述自适应栽培机构(30)的内侧放置有多组栽培盆(50),所述栽培盆(50)的内底部设置有一体化施肥灌溉组件(40),其中,所述自适应栽培机构(30)包括有:基础支架组件(60),所述基础支架组件(60)安装在所述基础底板(10)的顶部,且位于多组所述竖直柱体(20)的内侧,所述基础支架组件(60)的内部放置有多组栽培盆(50),所述基础支架组件(60)内部安装有延伸至外侧的一体化施肥灌溉组件(40);以及光照强度调控组件(70),所述光照强度调控组件(70)安装在所述基础支架组件(60)的顶部,且所述基础支架组件(60)设置有多组,一组所述光照强度调控组件(70)的底部设置有四组栽培盆(50)。
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