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申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司
摘要:本发明提供一种半导体工艺腔室和半导体工艺方法,半导体工艺腔室包括腔体、位于腔体内的可旋转的主承载盘、多个副承载盘、吹气组件、高度检测装置和控制器;高度检测装置设置在主承载盘上方,且在副承载盘随主承载盘旋转至高度检测装置的下方时,高度检测装置的检测窗口正对副承载盘的部分区域;高度检测装置用于检测位于检测窗口范围内的物体的高度;控制器用于:针对各副承载盘,根据高度检测装置检测到的位于检测窗口范围内的副承载盘的高度确定副承载盘的初始高度;根据确定出的各副承载盘的初始高度,调节吹气组件向各气道提供的气体的流量,以使任意两个副承载盘的高度差值均在预设范围内。本发明方案能够保证多片晶圆之间的工艺一致性。
主权项:1.一种半导体工艺腔室,包括腔体、位于所述腔体内的可旋转的主承载盘、多个副承载盘和吹气组件,所述主承载盘的承载面上具有多个容纳槽,多个所述副承载盘一一对应地设置在多个所述容纳槽中,每一所述容纳槽的底部设有气道,所述吹气组件用于向各所述气道提供气体以驱动对应的所述副承载盘绕自身轴线转动;其特征在于,所述半导体工艺腔室还包括:高度检测装置和控制器;所述高度检测装置设置在所述主承载盘上方,且在所述副承载盘随所述主承载盘旋转至所述高度检测装置的下方时,所述高度检测装置的检测窗口正对所述副承载盘的部分区域;所述高度检测装置用于检测位于所述检测窗口范围内的物体的高度;所述控制器用于:针对各所述副承载盘,根据所述高度检测装置检测到的位于所述检测窗口范围内的所述副承载盘的高度确定所述副承载盘的初始高度;根据确定出的各所述副承载盘的初始高度,调节所述吹气组件向各所述气道提供的气体的流量,以使任意两个所述副承载盘的高度差值均在预设范围内。
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百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺腔室和半导体工艺方法
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