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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于生成极紫外辐射的源和方法，其中通过如下来阻止熔融目标材料的喷溅：通过耗费可进入熔融目标材料沉积物，并通过引入与氢自由基反应的活性气体而在其中产生氢气泡的氢自由基的数目。
主权项：1.用于生成EUV辐射的装置，所述装置包括：容器；位于所述容器内的收集器镜，所述收集器镜具有光轴、位于所述容器内并在所述光轴上的主焦点以及在所述光轴上的中间焦点；至少一个排气口，所述至少一个排气口位于在所述光轴上的、在所述主焦点和所述中间焦点之间的第一位置旁边的、所述容器的侧壁中；和至少一个入口，所述至少一个入口适于被放置成与气体源流体连通，并位于在所述光轴上的、在所述中间焦点与所述第一位置之间的第二位置旁边的侧壁中，其中所述气体源提供的气体被引入第一区域中，以与那里的氢自由基反应并消耗所述氢自由基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法
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