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申请/专利权人：上海积塔半导体有限公司
摘要：本申请涉及一种曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。方法包括：获取预设晶圆的多个不同位置处的初始平整度信息，预设晶圆上具有标记区；在覆盖预设晶圆的多个曝光单元中，获取目标曝光单元，目标曝光单元与标记区相邻；滤除目标曝光单元中的至少部分区域的初始平整度信息；重建被滤除初始平整度信息的区域的平整度信息；基于重建的平整度信息，对目标曝光单元进行曝光。采用本方法能够改善散焦缺陷。
主权项：1.一种曝光方法，其特征在于，包括：获取预设晶圆的多个不同位置处的初始平整度信息，所述预设晶圆上具有标记区；在覆盖预设晶圆的多个曝光单元中，获取目标曝光单元，所述目标曝光单元与所述标记区相邻；滤除所述目标曝光单元中的至少部分区域的初始平整度信息；重建被滤除所述初始平整度信息的区域的平整度信息；基于重建的平整度信息，对所述目标曝光单元进行曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海积塔半导体有限公司 曝光方法、装置、计算机设备、存储介质
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