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申请/专利权人：同济大学
摘要：本发明公开了一种原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对测量方法，属于纳米计量溯源技术领域，包括如下步骤：S1、采用原子光刻技术制备掩膜光栅；S2、利用软X射线干涉光刻技术制备得到硅光栅；S3、基于原子能级跃迁波长计算硅光栅的理论周期值；S4、基于硅光栅的TEM图像，以硅晶面间距为基准标尺测量硅光栅的实际周期值；S5、通过比较硅光栅的理论周期值与实际周期值给出两种溯源传递方式的一致性评价。本发明采用上述的一种原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对测量方法，实现了原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对，比较了两种长度溯源链的准确性和一致性。
主权项：1.一种原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对测量方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、采用原子光刻技术制备掩膜光栅；S2、利用软X射线干涉光刻技术制备得到硅光栅；S3、基于原子能级跃迁波长计算硅光栅的理论周期值；S4、基于硅光栅的TEM图像，以硅晶面间距为基准标尺测量硅光栅的实际周期值；S5、通过比较硅光栅的理论周期值与实际周期值给出两种溯源传递方式的一致性评价。
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百度查询： 同济大学 一种原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对测量方法
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