Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

一种反转电解铜箔的制备方法及其产品和应用 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:浙江花园新能源股份有限公司

摘要:本发明公开了一种反转电解铜箔的制备方法,包括对生箔依次进行酸洗处理、粗固化处理、电镀金属层和硅烷化处理,硅烷化处理具体包括:将长链硅烷偶联剂与短链硅烷偶联剂加入酸性的纯水中,充分水解后涂覆于铜箔处理面,烘干后得到反转电解铜箔;长链硅烷偶联剂选自3‑丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷;短链硅烷偶联剂选自乙烯基三甲氧基硅烷和或乙烯基三乙氧基硅烷中的一种或多种;纯水的pH值为4~5;电镀金属层,依次为电镀金属镍层、电镀金属锌层、电镀金属铬层和电镀镍铬合金层;电镀金属层时,电流密度为0.65~2.00Adm2。本发明公开了一种反转电解铜箔的制备方法,通过对电解铜箔表面的改性处理可以显著提升其与树脂基材间的剥离强度,电解铜箔的耐热性能也得到显著提升;该方法制备的反转电解铜箔尤其适用于PPO树脂基材。

主权项:1.一种反转电解铜箔的制备方法,包括对生箔依次进行酸洗处理、粗固化处理、电镀金属层和硅烷化处理,其特征在于,所述硅烷化处理具体包括:将长链硅烷偶联剂与短链硅烷偶联剂加入酸性的纯水中,充分水解后涂覆于铜箔处理面,烘干后得到反转电解铜箔;所述长链硅烷偶联剂选自3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷;所述短链硅烷偶联剂选自乙烯基三甲氧基硅烷和或乙烯基三乙氧基硅烷中的一种或多种;所述纯水的pH值为4~5;所述电镀金属层,依次为电镀金属镍层、电镀金属锌层、电镀金属铬层和电镀镍铬合金层;电镀金属层时,电流密度为0.65~2.00Adm2。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江花园新能源股份有限公司 一种反转电解铜箔的制备方法及其产品和应用

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术