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申请/专利权人:重庆万国半导体科技有限公司
摘要:本实用新型涉及外延炉辅助装置领域,公开了一种石墨下环及石墨环,包括下环本体,所述下环本体上沿一轴向开设有一第一定位孔,所述下环本体上沿第一定位孔的圆周方向设置有一下扣部,所述下扣部和下环本体均由石墨制成并围合形成有一第一L形空间,所述第一L形空间用于与石墨上环扣合并用于限制热电偶变形。上述石墨下环及石墨环通过下环本体与下扣部之间形成的第一L形空间,在便于安装热电偶的同时,第一L形空间用于支撑热电偶,使热电偶在受到反应腔内高温影响而形变时支撑下垂的热电偶,使热电偶不具备形变下垂的条件而无法下垂变形,从而使热电偶能够继续测温,以能够实时对反应腔内的石墨进行测温,从而便于调控反应腔内温度而保证石墨基座的使用寿命。
主权项:1.一种石墨下环,包括下环本体,其特征在于:所述下环本体上沿一轴向开设有一第一定位孔,所述下环本体上沿第一定位孔的圆周方向设置有一下扣部,所述下扣部和下环本体均由石墨制成并围合形成有一第一L形空间,所述第一L形空间用于与石墨上环扣合并用于限制热电偶变形。
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