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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2023-07-05
公开（公告）日：2025-01-14
公开（公告）号：CN119317878A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：公开了一种量测设备，其中，已与标记相互作用的测量辐射中的一些被拆分成通道或臂，并且随后每个通道或臂在空间上分离。在一些版本中，对准信息包括偏振通道强度信息。在其它版本中，所述对准信息包括颜色通道强度信息。
专利权项：1.一种量测装置，包括：束分离元件，所述束分离元件被布置成接收已与标记相互作用的测量辐射，并且使所述测量辐射的第一部分在第一通道中传播并使所述测量辐射的第二部分在第二通道中传播，所述第二部分具有与所述第一部分不同的光学性质；第一通道分离元件，所述第一通道分离元件被布置在所述第一通道中以在空间上分离所述第一部分的多个第一通道构成部分；第一通道光学元件，所述第一通道光学元件被布置成聚焦所述第一通道构成部分；第一多芯部光纤，所述第一多芯部光纤具有分别与所述多个第一通道构成部分中的第一通道构成部分对应的多个芯部，所述第一多芯部光纤具有布置在所述第一通道光学元件的焦平面处的接收端部；第二通道分离元件，所述第二通道分离元件被布置在所述第二通道中以在空间上分离所述第二部分的多个第二通道构成部分；第二通道光学元件，所述第二通道光学元件被布置成聚焦所述第二通道构成部分；以及第二多芯部光纤，所述第二多芯部光纤具有分别与所述多个第二通道构成部分中的第二通道构成部分对应的多个芯部，所述第二多芯部光纤具有布置在所述第二通道光学元件的焦平面处的接收端部。
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于光刻系统的增强对准设备
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