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申请/专利权人：山西云矽电子科技有限公司
申请日：2020-08-04
公开（公告）日：2025-01-14
公开（公告）号：CN111910170B
专利技术分类：...仅沉积金刚石[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括：波导装置；反应腔，设置在所述波导装置下方，与所述波导装置连接；冷却罩，与所述反应腔连接，用于对所述反应腔进行风冷散热；屏蔽罩，围设在所述反应腔外部，以防止所述反应腔内的电磁辐射泄漏；旋转升降机构，所述旋转升降机构与所述反应腔内设置的生长平台连接，以实现所述生长平台在所述反应腔内做直线运动和旋转运动。本发明的微波等离子体化学气相沉积装置，可以为化学气相沉积工艺提供稳定的生长平台，避免了金刚石膜出现生长不均匀的现象。
专利权项：1.一种微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括：波导装置100；反应腔200，设置在所述波导装置100下方，与所述波导装置100连接；冷却罩300，与所述反应腔200连接，用于对所述反应腔200进行风冷散热；所述冷却罩300包括均风板301、引风道302、风机303和连接管304，其中，所述均风板301设置在屏蔽罩400上方；所述引风道302与所述均风板301连接；所述风机303通过所述连接管304与所述引风道302连接；所述均风板301上设置有若干通风孔3011；所述通风孔3011错落的分布在所述均风板301上；屏蔽罩400，围设在所述反应腔200外部，以防止所述反应腔200内的电磁辐射泄漏；所述屏蔽罩400上设置有若干通孔401；所述通孔401的直径小于或等于需屏蔽电磁波波长的110；旋转升降机构，所述旋转升降机构与所述反应腔200内设置的生长平台201连接，以实现所述生长平台201在所述反应腔200内做直线运动和旋转运动。
百度查询： 山西云矽电子科技有限公司 微波等离子体化学气相沉积装置
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