恭喜四川师范大学赵国平获国家专利权
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龙图腾网恭喜四川师范大学申请的专利一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113659072B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110893274.8,技术领域涉及:H10N52/01;该发明授权一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法是由赵国平;饶选秀;赵莉;梁雪设计研发完成,并于2021-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法,包括以下步骤:构建磁性多层膜结构和产生斯格明子;本发明通过调节石墨烯与铁磁之间的厚度以调节该结构的DMI值和PMA值,以及复合材料层的DMI值以实现磁结构中斯格明子的产生,通过在电流注入层注入自旋极化电流产生斯格明子,石墨烯的加入实现更好地对该结构DMI值和PMA值进行调控,在一个较大范围内实现各种磁结构的成核,且石墨烯和铁磁可以诱导出较大的DMI,该DMI不再需要非磁性层具有强大的自旋轨道耦合,大大扩展了异质结构材料选择范围;另外石墨烯的加入不仅可以对金属层起到抗氧化作用,还能作为活性剂利于铁磁层生长,形成多层膜结构,可实现性更强。
本发明授权一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法在权利要求书中公布了:1.一种基于石墨烯和金属复合材料产生斯格明子的方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤一:构建磁性多层膜结构先在基底层上设置复合材料层CoPt,再在复合材料层上增加一层铁磁层Co,接着在铁磁层上设置石墨烯层,最后在石墨烯层上设置电流注入层,并通过基底层、复合材料层、铁磁层、石墨烯层和电流注入层共同构成完整的计算模型,所述基底层、复合材料层、铁磁层、石墨烯层和电流注入层为同一几何中心,所述基底层为氧化镁绝缘基底,所述复合材料层为铁磁与重金属层,所述重金属层为Pt层;步骤二:产生斯格明子根据步骤一,磁性多层膜结构构建完毕后在电流注入层注入自旋极化电流,注入时间为0.5ns,并调节石墨烯层与铁磁层之间的PMA值以及铁磁层和复合材料层的DMI值,最后产生斯格明子。
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