恭喜默克专利有限公司乔比·艾尔多获国家专利权
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龙图腾网恭喜默克专利有限公司申请的专利选择性形成含金属膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115003853B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180011039.1，技术领域涉及：C23C16/04；该发明授权选择性形成含金属膜的方法是由乔比·艾尔多;雅各布·伍德拉夫;肖恩·圣恩·洪(曾用名:洪圣恩);拉文德拉·坎乔利亚;查里斯·纳纳亚卡拉;查尔斯·德泽拉设计研发完成，并于2021-02-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本选择性形成含金属膜的方法在说明书摘要公布了：提供了形成含金属膜的方法。这些方法包括例如在第一基材表面上通过第一沉积工艺形成阻挡层及例如在第二基材表面上通过第二沉积工艺形成该含金属膜。
本发明授权选择性形成含金属膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种形成含金属膜的方法，该方法包括：通过第一气相沉积工艺或第一液相沉积工艺在第一基材表面上形成阻挡层，其中该第一气相沉积工艺为气化结构上对应于式I的化合物： 其中X1是R1或R2R3；其中R1是任选地被一个或多个三氯甲硅烷基取代的C8-C20-烷基；R2是任选地被一个或多个卤素取代的C8-C20-亚烷基；并且R3选自由以下组成的组：腈基、乙烯基、卤素、三氟甲基、乙酰氧基、甲氧基乙氧基、以及苯氧基；并且其中该第一液相沉积工艺为使该第一基材表面与包含该结构上对应于式I的化合物的溶液接触；以及在第二基材表面上通过第二沉积工艺形成该含金属膜，该第二沉积工艺包括气化至少一种在结构上对应于式II的金属络合物： 其中M是Hf；并且L1、L2、L3和L4各自独立地选自由以下组成的组：C1-C8-烷基、C1-C8-烷氧基及任选地被至少一个C1-C8-烷基取代的Cp基团；其中该第一基材表面包含介电材料并且该第二基材表面包含金属材料。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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