恭喜意法半导体(鲁塞)公司R·杰尔马纳-卡尔皮内托获国家专利权
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龙图腾网恭喜意法半导体(鲁塞)公司申请的专利晶体管结构及其形成方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113241379B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110090630.2,技术领域涉及:H10D30/60;该发明授权晶体管结构及其形成方法是由R·杰尔马纳-卡尔皮内托设计研发完成,并于2021-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶体管结构及其形成方法在说明书摘要公布了:本公开涉及晶体管结构及其形成方法。一个实施例晶体管包括:由第一沟槽界定的半导体漏极区域、以及在第一沟槽中的第一导电元件,该第一导电元件被电耦合到电势的施加的节点,该电势更接近晶体管的漏极电势,而不是更接近晶体管的源极电势。
本发明授权晶体管结构及其形成方法在权利要求书中公布了:1.一种晶体管,包括:半导体漏极区域,由第一沟槽界定;第一导电元件,位于所述第一沟槽中,其中所述半导体漏极区域包围所述第一导电元件的三个侧面;以及第一节点,被电耦合到所述第一导电元件,所述第一节点被配置为耦合到第一电势,所述第一电势更接近所述晶体管的漏极电势,而不是更接近所述晶体管的源极电势。
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