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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司申请的专利一种偏光片及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114280714B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011040583.2，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权一种偏光片及其制备方法、显示装置是由张宇;仝广运;李卓隆;叶明哲;王伯长设计研发完成，并于2020-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种偏光片及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种偏光片及其制备方法、显示装置，用以实现健康显示，以及避免显示色偏。本申请实施例提供的一种偏光片，所述偏光片包括：偏光层，以及位于所述偏光层出光侧的解偏层；所述解偏层包括：纳米粒子，以及包覆所述纳米粒子的反射部；包覆所述纳米粒子的所述反射部与入射光发生共振散射。

本发明授权一种偏光片及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括：偏光层，以及位于所述偏光层出光侧的解偏层；所述解偏层包括：纳米粒子，以及包覆所述纳米粒子的反射部；包覆所述纳米粒子的所述反射部与入射光发生共振散射；所述解偏层中的所述纳米粒子具有多种粒径，包覆不同种粒径的所述纳米粒子的所述反射部，分别与不同预设波长范围的光发生共振散射；所述解偏层至少包括：第一纳米粒子、第二纳米粒子、以及第三纳米粒子；所述第一纳米粒子的直径大于所述第二纳米粒子的直径，所述第二纳米粒子的直径大于所述第三纳米粒子的直径；包覆所述第三纳米粒子的所述反射部的厚度，大于包覆所述第二纳米粒子的所述反射部的厚度；包覆所述第二纳米粒子的所述反射部的厚度，大于包覆所述第一纳米粒子的所述反射部的厚度；包覆所述第一纳米粒子的所述反射部与红光发生共振散射；包覆所述第二纳米粒子的所述反射部与绿光发生共振散射；包覆所述第三纳米粒子的所述反射部与蓝光发生共振散射；所述反射部的材料包括金属。

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