恭喜东友精细化工有限公司金正铉获国家专利权
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龙图腾网恭喜东友精细化工有限公司申请的专利钛系金属膜用蚀刻液组合物、钛系金属配线和半导体元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115679324B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210873722.2，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权钛系金属膜用蚀刻液组合物、钛系金属配线和半导体元件是由金正铉;金范洙;赵现洙设计研发完成，并于2022-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本钛系金属膜用蚀刻液组合物、钛系金属配线和半导体元件在说明书摘要公布了：本发明提供钛系金属膜用蚀刻液组合物、钛系金属配线和半导体元件，上述钛系金属膜用蚀刻液组合物包含无机酸、含氟化合物和硫酸盐化合物，且不包含过氧化氢和氯化物，由特定数学式1和2定义的Y1值和Y2值为特定范围。本发明的钛系金属膜用蚀刻液组合物能够在使底切最少化的同时使残渣产生最少化。
本发明授权钛系金属膜用蚀刻液组合物、钛系金属配线和半导体元件在权利要求书中公布了：1.一种钛系金属膜用蚀刻液组合物，其包含无机酸、含氟化合物、硫酸盐化合物和唑化合物，由以下数学式1定义的Y1值为0.14～0.25，由以下数学式2定义的Y2值为70～105，且不包含过氧化氢、氯化物和碱性化合物，所述无机酸包含选自由硝酸和硫酸所组成的组中的一种以上，数学式1Y1＝0.007X1+0.22X2+0.008X3数学式2Y2＝7.2X1-143.2X2+8.1X3+11.3X1X2-0.51X1X3+11.9X2X3所述数学式1和2中，X1为相对于组合物整体重量以重量％表示的无机酸的含量，X2为相对于组合物整体重量以重量％表示的含氟化合物的含量，X3为相对于组合物整体重量以重量％表示的硫酸盐化合物的含量。
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