恭喜绵阳京东方光电科技有限公司;成都拓维高科光电科技有限公司黄世雄获国家专利权
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龙图腾网恭喜绵阳京东方光电科技有限公司;成都拓维高科光电科技有限公司申请的专利一种减小Mask形变的掩膜板制作方法、支撑掩膜板及掩膜板获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115161593B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210714861.0,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权一种减小Mask形变的掩膜板制作方法、支撑掩膜板及掩膜板是由黄世雄;谢涛峰;胡明;郑庆靓;李胤粹;李哲;周俊吉;王鑫设计研发完成,并于2022-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种减小Mask形变的掩膜板制作方法、支撑掩膜板及掩膜板在说明书摘要公布了:本发明公开了一种减小Mask形变的掩膜板制作方法、支撑掩膜板及掩膜板,具体包括以下步骤:S1、获得张网拉伸后实验支撑掩膜板的至少部分掩膜开口的偏移量;S2、计算所述掩膜开口的位置精度;S3、根据所述掩膜开口的位置精度、偏移量获得对应于掩膜开口的补偿量;S4、根据所述掩膜开口的补偿量,将支撑掩膜板上预设的掩膜开口位置进行补偿处理得到补偿后的掩膜开口位置,并根据补偿后的掩膜开口位置在支撑掩膜板上形成掩膜开口。本发明通过减小四周拉力后,在满足平坦度要求的同时使得框架翘曲量减小,同时减小一体化支撑掩膜板整体垂直度变化的可能性。
本发明授权一种减小Mask形变的掩膜板制作方法、支撑掩膜板及掩膜板在权利要求书中公布了:1.一种减小Mask形变的掩膜板制作方法,其特征在于,具体包括以下步骤:S1、获得张网拉伸后实验支撑掩膜板的至少部分掩膜开口的偏移量;所述支撑掩膜板的张网拉伸为作用于支撑掩膜板各个侧边的张网拉力,其中四角处的拉力值远远大于其他位置;S2、计算所述掩膜开口的位置精度;S3、根据所述掩膜开口的位置精度、偏移量获得对应于掩膜开口的补偿量,掩膜开口补偿量包括开口位置补偿和开口形状补偿,平移补偿量为开口位置补偿的情形,旋转补偿量、卷翘补偿量为开口形状补偿的情形;S4、根据所述掩膜开口的补偿量,将支撑掩膜板上预设的掩膜开口位置进行补偿处理得到补偿后的掩膜开口位置,并根据补偿后的掩膜开口位置在支撑掩膜板上形成掩膜开口;所述步骤S2之前还包括分区处理,将所述支撑掩膜板的掩膜开口分为中心区域与非中心区域,所述中心区域为位于支撑掩膜板中心预设区域内的掩膜开口,所述非中心区域为支撑掩膜板非中心预设区域内的掩膜开口;所述中心区域为开口区中心处与预设掩膜开口位置仅有平移形变量的掩膜开口所在的位置;所述步骤S3具体包括以下步骤:判断所述掩膜开口是否属于中心区域;若是,则直接根据所述掩膜开口的偏移量计算平移补偿量;若否,则根据所述掩膜开口的位置精度进行判定;若所述位置精度大于预设值,则根据所述掩膜开口的偏移量计算旋转补偿量、卷翘补偿量以及平移补偿量中的至少一种;若所述位置精度小于预设值,则根据掩膜开口的偏移量计算平移补偿量。
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