恭喜东京应化工业株式会社中村亮辅获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京应化工业株式会社申请的专利负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固化膜及制造方法及辊体获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114503030B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080069169.6,技术领域涉及:G03F7/038;该发明授权负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固化膜及制造方法及辊体是由中村亮辅;近藤崇弘;武内弘明;今井洋文设计研发完成,并于2020-10-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固化膜及制造方法及辊体在说明书摘要公布了:本发明采用含有含环氧基树脂与金属氧化物与阳离子聚合引发剂、利用使用了含有有机溶剂的显影液的显影形成负型图案的负型感光性树脂组合物或者感光性抗蚀剂薄膜作为用于形成中空结构的感光性材料。使用上述负型感光性树脂组合物而在硅晶圆上形成的膜厚20μm的感光性树脂膜的马氏硬度小于235[Nmm2],并且将该感光性树脂膜固化而得的固化膜在以频率1.0Hz进行粘弹性测量的情况下的温度175℃时的拉伸弹性模量E*为2.1[GPa]以上。
本发明授权负型感光性树脂组合物、感光性抗蚀剂薄膜、图案形成方法、固化膜及制造方法及辊体在权利要求书中公布了:1.一种负型感光性树脂组合物,含有含环氧基树脂A、金属氧化物M与阳离子聚合引发剂I,利用使用了含有有机溶剂的显影液的显影形成负型图案,其特征在于,所述负型感光性树脂组合物中,在将所述负型感光性树脂组合物涂布在硅晶圆上,以90℃进行5分钟的烘烤处理,由此得到膜厚为20μm的感光性树脂膜时,其马氏硬度小于235[Nmm2],并且若对所述感光性树脂膜以照射量200mJcm2用i线曝光,以90℃进行5分钟的曝光后烘烤处理,然后以200℃进行1小时的烘烤处理从而使其固化得到固化膜,在对该固化膜以频率1.0Hz进行粘弹性测量的情况下,温度175℃时的拉伸弹性模量E*为2.1[GPa]以上,所述金属氧化物M的含量相对于所述含环氧基树脂A100质量份为超过30质量份、180质量份以下,所述含环氧基树脂A含有以下述通式A1表示的树脂A1,【化1】 式中,Rp1及Rp2分别独立地为氢原子或碳数为1~5的烷基,多个Rp1可以彼此相同也可以不同,多个Rp2可以彼此相同也可以不同,n1为1~5的整数,REP是含环氧基的基团,多个REP可以彼此相同也可以不同,所述含环氧基树脂A含有包含以下述通式m1表示的局部结构的化合物m1,【化2】 式中,n2为1~4的整数,*表示化学键,所述含环氧基树脂A含有以下述通式m2表示的化合物m2,【化3】 式中,REP是含环氧基的基团,多个REP可以彼此相同也可以不同,所述含环氧基树脂A含有所述树脂A1与所述化合物m1与所述化合物m2,在所述树脂A1与所述化合物m1与所述化合物m2的合计含量中占有的、所述化合物m1与所述化合物m2的合计含量为15质量%以上。
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