买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜大日本印刷株式会社申请的专利转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115570910B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211367048.7，技术领域涉及：B44C1/17；该发明授权转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体是由宫田凉平;松井清隆;松田芳成;植田润;篠原诚司;堀尾智之;小堺达也;铃木翔设计研发完成，并于2020-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体在说明书摘要公布了：本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序1～工序2：工序1，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序2，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。

本发明授权转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体在权利要求书中公布了：1.一种转印片的制造方法，其中，在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序1～工序2：工序1，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层，所述功能层中的至少一个功能层在单层内功能偏向于与所述脱模基材1相反的一侧，功能偏向于与所述脱模基材1相反的一侧而成的功能层为基于防污剂的功能偏向而成的防污层或防污性低折射率层；以及工序2，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1，所述剥离强度2与所述剥离强度1之差为15mN25mm以上且450mN25mm以下。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人大日本印刷株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。