恭喜三菱化学株式会社柴田俊明获国家专利权
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龙图腾网恭喜三菱化学株式会社申请的专利清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112602175B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980055634.8，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法是由柴田俊明;河瀬康弘;原田宪;伊藤笃史;草野智博;竹下祐太朗设计研发完成，并于2019-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及清洗液，其包含成分A：下述通式1所表示的化合物、成分B：烷基胺、成分C：多元羧酸、成分D：抗坏血酸，其中，成分A的质量相对于成分B和成分C的合计质量之比为1～15。所述通式1中，R1、R2、R3分别与说明书中所记载的定义相同。。
本发明授权清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种清洗液，其包含下述成分A～成分D，其中，成分A的质量相对于成分B与成分C的合计质量之比为1～15，成分A：下述通式1所表示的化合物，[化1] 所述通式1中，R1表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，R2表示羧基、羰基、具有酯键的官能团、氢原子或碳原子数1～4的烷基，R3表示乙酰基、氢原子或碳原子数1～4的烷基；成分B：烷基胺；成分C：多元羧酸；成分D：抗坏血酸。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三菱化学株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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