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龙图腾网恭喜杭州睿影科技有限公司申请的专利散射校正方法及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119359849B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411918953.6，技术领域涉及：G06T11/00；该发明授权散射校正方法及电子设备是由窦威;徐光明;董涛设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本散射校正方法及电子设备在说明书摘要公布了：本申请提供了散射校正方法及电子设备。本实施例借助于标定体构建散射物理模型，以确定最优第一散射校正系数和最优第二散射校正系数，后续即可借助于最优第一散射校正系数和最优第二散射校正系数对图像中的散射成分进行校正，实现了对X射线成像设备生成的图像进行散射校正，有效增加了图像的对比度、提升信噪比等，有助于基于图像进行更精准的物质识别。

本发明授权散射校正方法及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种散射校正方法，其特征在于，该方法包括：生成用于描述散射的散射物理模型；所述散射物理模型指示：任一标定体对应的训练图像中任一像素位置上像素点的像素特征值P_total，与直射至该像素位置上的直射X射线对该像素位置贡献的贡献值P_direct、散射至该像素位置上的任一散射X射线对该像素位置的贡献值P_scatter、以及该散射X射线的像素特征值分布P有关；所述P_scatter与待优化的第一散射校正系数有关，所述P与待优化的第二散射校正系数有关；其中，在任一像素位置的P_total确定的前提下，所述散射物理模型表示该像素位置上的P_direct与第一散射校正系数和第二散射校正系数之间的关系；在确定出训练图像中各感兴趣区域内各不同像素位置的P_total的前提下，分别设定第一散射校正系数和第二散射校正系数为不同值时，基于所述散射物理模型确定出各感兴趣区域内各不同像素位置下的P_direct；基于已设定的关于各感兴趣区域内各像素位置下的P_direct的第一损失函数，确定所述标定体对应的最优第一散射校正系数和最优第二散射校正系数；同一感兴趣区域内任意两个不同像素位置上的信号强度满足设定相似要求；其中，所述最优第一散射校正系数和最优第二散射校正系数，用于对任一图像进行散射校正。

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