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龙图腾网恭喜上海超导科技股份有限公司申请的专利离子束辅助沉积镀膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118360572B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410377027.6，技术领域涉及：C23C14/32；该发明授权离子束辅助沉积镀膜装置是由朱佳敏;林晓辉;陈思侃;高中赫;孙树博;李鸿;曹森;陈永春;陈晓琦设计研发完成，并于2023-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本离子束辅助沉积镀膜装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀，且刻蚀速度大于镀膜速度，使净沉积速度很低，但由于高的刻蚀速度，在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度，保证同根带材两端的织构度差别＜10％，最终制备的超导带材，两端的临界电流差别小于10％，进而提高了镀膜效果。

本发明授权离子束辅助沉积镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种离子束辅助沉积镀膜装置，其特征在于，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，所述镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，所述刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀；还包括弧形水冷板，所述弧形水冷板设置在带材背离靶材的一侧，所述弧形水冷板能够在水平垂直于带材运动的方向上下调节，所述弧形水冷板对与弧形水冷板贴合的带材进行水冷；走带系统对单根带材进行收放卷，且单根带材形成多道连续平行的走带；还包括靶座和冷却系统，所述靶座用于支撑靶材，所述靶座能够在水平垂直于带材运动的方向前后调节；所述冷却系统对靶材进行冷却；还包括工艺气路；所述工艺气路集成在弧形水冷板上，所述弧形水冷板靠近带材的一侧设置有一条或多条与带材运动方向平行的走道，任一所述走道上均设置有弧形水冷板气路出口。

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