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龙图腾网恭喜嘉兴驭光光电科技有限公司申请的专利一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115469451B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211158845.4，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器是由范真涛;隋磊;田克汉设计研发完成，并于2022-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器在说明书摘要公布了：本申请公开了一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器，设计方法包括：利用标量衍射理论算法获取衍射光学元件的相位分布设计图；基于阵列光源中的至少两个特征子光源分别与相位分布设计图进行矢量仿真得到仿真点阵能量分布；根据仿真点阵能量分布与目标点阵能量分布的差异得到补偿后的目标点阵能量分布；利用标量衍射理论算法获取与各特征子光源对应的衍射光学元件的更新的相位分布设计图；从更新的相位分布设计图中裁剪出与特征子光源对应的局域相位分布设计图拼接得到衍射光学元件的整合相位分布设计图。根据本发明，通过对衍射光学元件划分区域设计，提高了经其分光所得到的点阵能量整体的均匀性。

本发明授权一种高均匀性点阵的衍射光学元件及其设计方法、投射器在权利要求书中公布了：1.一种衍射光学元件的设计方法，所述衍射光学元件用于与包括多个子光源的阵列光源结合使用以投射散斑点阵，所述设计方法包括：1确定阵列光源中子光源的参数以及所述衍射光学元件的目标点阵光场，利用标量衍射理论算法获取所述衍射光学元件的相位分布设计图，所述目标点阵光场具有目标点阵能量分布；2在阵列光源的多个子光源中选取至少两个子光源作为特征子光源，并且基于每一个特征子光源与所述衍射光学元件的相位分布设计图进行矢量仿真，分别得到与每一个特征子光源对应的仿真点阵能量分布；3根据各个仿真点阵能量分布与目标点阵能量分布的差异，对目标点阵能量分布进行补偿，使得目标点阵能量分布获得一个与上述差异反向的增量，得到分别与每一个特征子光源对应的补偿后的目标点阵能量分布；4基于每一个特征子光源及其对应的补偿后的目标点阵能量分布，利用标量衍射理论算法获取与每一个特征子光源对应的所述衍射光学元件的更新的相位分布设计图；5根据各个特征子光源照射在衍射光学元件上的光斑区域，从各个特征子光源对应的所述更新的相位分布设计图中裁剪出与各个特征子光源对应的局域相位分布设计图，利用所述局域相位分布设计图拼接得到衍射光学元件的整合相位分布设计图。

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